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Cressington公司*初成立于1973年，在高真空镀膜领域提供产品设计服务。 1977年，公司开始生产和销售一系列产品。
这些早期的涂层产品设计用于在透射电子显微镜（TEM）中沉积用于制备样品的超薄层。紧凑型电子束（EB）蒸发源，超稳定EB电源和模块化冷冻蚀刻附件主要用于分子生物学研究。他们还发现了食品和涂料的发展应用。
当Cressington从模块化配件转移到制造成套设备时，它正处于冻蚀领域。**个完整的冷冻蚀刻系统（CFE-40）于1986年交付给位于伊利诺斯州埃文斯顿的西北大学。该单元*近被搬迁到马萨诸塞州波士顿的东北大学，目前仍在使用。
1991年，Cressington公司进入更广泛的扫描电子显微镜（SEM）涂层市场，推出桌面“108”系列涂层机。这些高效率的低真空溅射镀膜机和碳蒸发器非常受欢迎。随着时间的推移，它们得到了改进和发展，并且仍然大量出售。
Cressington 108涂布机系列的推出凸显了对**，价廉的薄膜厚度监测仪的需求。 MTM-10的开发成功满足了这个要求。 Cressington台式低真空镀膜机的30％以上都配有厚度监测器。
1993年，台式涂布机的范围扩大到包括高真空溅射镀膜机（208HR）和高真空碳蒸发器（208C）。随着高分辨率FE-SEM的使用的增加，这些涂布机的市场仍在增长。 208HR被认为是FE-SEM溅射镀膜的行业标准。
1999年，我们推出了一种新型的涂布机，这种涂布机具有广受欢迎的12英寸大小（308R）。308R的高度适应性格式在FE-SEM和TEM的**样品制备中以及在薄膜研发领域的许多领域中立即有了应用。这种涂布机在一个真空循环中能够结合溅射和高真空蒸发是非常不寻常的，308R的配件和腔室形式也是不断发展的主题。
Cressington目前提供多种台式涂布机。溅射镀膜机的范围从简单的低真空金镀膜机到复杂的高真空多头溅镀镀膜机，用于研发。蒸发器的范围从低真空碳镀膜机到混合EB和电阻源的多材料镀膜机。虽然冷冻蚀刻技术已不再被广泛使用，但它仍然可以为专业研究人员提供显着的优势，而目前的桌面型号仍然可以根据特殊要求提供。
Cressington致力于持续研究和产品开发计划，以改善涂层系列的性能。*新的308R提供了涡轮泵和低温泵的组合，以在高达10-8mb的范围内提供极限压力。初步测试表明，这种超洁净和超干的真空环境给溅射层的性能带来了显着的好处。
本公司网站所展示销售的产品仅供科研！
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